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EDI超纯水设备

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贵州电子超纯水设备,钢化玻璃行业高纯水设备

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产品详情

电子超纯水设备概述

超纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一。超纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出。半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备,这是一种制取超纯水的首选工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺。
 

超纯水设备
超纯水设备


电子工业用超纯水的应用领域

1)半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

2)超纯材料和超纯化学试剂。

3)实验室和中试车间。

4)汽车、家电表面抛光处理。

5)光电产品。

6)其他高科技精微产品。
                                                                
电子工业用超纯水设备


电子工业用超纯水设备


制备电子工业用超纯水的工艺流程

电子行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种:

方案一:

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15 MΩ•cm)

方案二:

预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-二级反渗透-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17 MΩ•cm)

方案三:

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18 MΩ•cm)

在电子光学超纯水设备设计上,通常采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺;或者是全膜法处理工艺:UF+二级RO+EDI+抛光混床。确保处理后出水电阻率达到18 MΩ•cm以上。

为获得电子光学行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2MΩ•cm)的理论超纯水,在普通EDI超纯水设备后,通常还装设抛光混床进行最终的精处理。这种抛光混床用树脂是相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物,由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离,不能用酸碱将它们分别再生,所以这种抛光树脂失效后,弃之不用。抛光混床又称一次性混床,一般情况用在工艺末端,用来更进一步提高产水水质。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及TOC、SiO2都有一定的控制能力。